講演10 | 粘性液体の塗工過程における自発的空間パターン発生機構の解析 |
研 究 者 ○印発表者 | 〇林田啓佑*1、伴野太祐*1、佐藤昇正*2、中村直生*2、前沢大介*2、正木仁*3、矢作彰一*4、黒田章裕*5、朝倉浩一*1 |
所 属 | 慶應義塾大学*1、パレエルモサ*2、東京工科大学*3、ニッコールグループ*4、黒田総合技研*5 |
概 要 | 粘性液体の固体基板上への塗工において、自発的に空間周期ストライプパターンが発生する機構を解析した。ブロック型アプリケーターの自重による塗工では、粘性で塗工速度と等速で侵入する境界層とその後にゆっくりと侵入するポテンシャルコア層の2層が形成されることが見出された。そして、このポテンシャルコア層においてヴィスコスフィンガリングが発生し、その痕跡が塗膜に形成されたパターンであることが認められた。 |